陈一然一直比较担心的，就是未来光刻机被卡脖子的问题。
作为天天高强度上网的人，他对於光刻机的事情知道的还不少。现在还不是最惨的时候，好歹还是能买到duv的，再过十年，不只是duv买不到，里面的一些核心部件也都买不到了。
首当其衝的就是物镜和投影透镜，全都是蔡司生產的，这是光刻机的灵魂，一直到2025年，中国也没追上蔡司的水平，只能做一些低端线。
比较扎心的是，追上这个需要离子束拋光机等超精密设备，而这些设备本身也是需要从日本德国进口的。
还有光源系统，努力发展之后，虽然能用，但是稳定性差距巨大，euv更是摸都摸不到边。
精密机械方面，双工件台是asml的標誌性技术，一个台在曝光的同时，另一个台在做对准测量，交替工作，產能翻倍。
中国虽然看似追上了，但是光柵尺几乎完全依赖德国海德汉。
2025年的情况是，虽然已经喊出了国產率超过7成的口號，但是那剩下的3成一直依赖库存部件，但这些部件终有一天会用完的。
所以在管理会上，陈一然直接確定了公司未来的发展方向，不要考虑什么经济问题，先在技术上一路狂奔。
钱，陈一然多的是，他直接喊出了，除了帐面上的9亿美金和楷登未来3年的8亿美金分期款项。
万果园在中国eda市场中赚到的所有钱，以及6英寸產线赚到的钱，全部会投到设备和技术上。
甚至，如果研发需求资金过多，他可以以股东的身份借款。
虽然会议上都是资深从业者，已经过了吃饼的年纪，但是陈一然在这一年，多少养出了点感染力。几个大佬，多少有点血还未凉的感觉。
当天会议结束，邱慈云甚至在晚上，就把整个光刻机採购的详细流程整理好发给了他。
买一台浸没式duv光刻机不是签了合同打款就等收货的事，从发询价函到最后设备进洁净室，正常要跑一年半到两年，中间卡著三道大关。
第一关在asml的荷兰总部，第二关在荷兰政府，第三关在中国政府。
当然，第一和第三，是所有贸易都会走的。
但是作为高尖端项目，这第二关，就很麻烦了。
因为这涉及到一个协定。
瓦森纳协定。
全称是关於常规武器和两用物品及技术出口控制的瓦森纳安排，於1996年在奥地利维也纳成立，由四十个成员国组成。
协定的核心是一份管制清单，清单上的敏感物项和技术在出口时必须经过各成员国政府的逐单审批。半导体製造设备，尤其是浸没式duv光刻机，就在这张清单上。
本书首发 追书认准 101 看书网，101??????.??????超省心 ,提供给你无错章节，无乱序章节的阅读体验
asml不能自主决定卖给谁，每一台出口到中国的nxt光刻机，asml都要先向荷兰外交部属下的经济政策局提交出口许可申请。
荷兰政府审核设备的技术参数有没有超过瓦森纳协定的限制线，同时参考其他成员国的意见。
当然，说破了就是美国的意见。
然后决定发证还是拒绝，正常周期是四到六个月。
在2011年这个时间点上，浸没式duv在审核体系里所处的是一块灰色地带。审是审得慢，但如果买家的背景乾净，用途清晰，承诺不转售不军用，一般也不会被直接拒掉。
荷兰並没有將其列入《战略物资条例》，美国的《出口管理条例》也没有列入。
中芯国际在未来几年，曾经大规模採购过asml的光刻机，都没有被拒绝。
可以说这是一个短暂的窗口期，过了这个村就没这个店了。
但是，邱慈云，季明华，蒋尚义在会议上，一开始却並不支持买最新型號的光刻机。
现在的最新型號光刻机，是nxt1950i和1960i。
1950i是2008年初的主力型號。
1960i则是asml宣布，明年才会交付的最新型浸没式duv型號，號称解析度到38纳米，套刻精度可以控制在几纳米上下。
做28纳米和后续的14纳米工艺进阶，从参数上说这台机器是最匹配的。
可是28纳米用上一代的1900i甚至再早一点的1700i，在多几个个月的工艺磨合之后同样可以跑通。
几个大佬更是认为，1900i会更好用，原因在於工艺know-how。
工艺know-how，没有什么固定的中文翻译，简单来说，应该就是技术诀窍的意思。
很多人以为买了最先进的光刻机就能做出最先进的晶片，但其实並不是那么简单。
光刻机在整个晶片製造的工序链里只是其中一环，一个28纳米晶片从投片到封装出库大概要经歷五百到八百道工序。
光刻把电路图案投影到硅片上，刻蚀把图案刻进材料里，薄膜沉积在上面镀各种材料层，离子注入改变导电性，化学机械拋光把表面磨平，每道工序之间还有好几轮清洗和量测。
光刻机只负责每一次循环里面的拍照步骤，拍完之后，怎么刻，刻多少。
用什么气体配比，射频功率设置为多少瓦，腔体压力保持在多少毫托，温度控制在几度，刻多长时间，这些东西都需要后续自己的工艺测试。
一套成熟的刻蚀配方可能包含几十个参数，这些参数不是从教科书上能查到的。
每家代工厂的刻蚀机台不同，腔体內部状態不同，靶材组合不同，参数全都要自己摸索。
离子注入的能量窗口，偏了百分之五就可能让最后的閾值电压跑偏。化学机械拋光什么时候该停，不是一个传感器数字就能判断的，是工艺工程师根据几千片硅片的数据积累出来的经验。
最麻烦的是各个工序的互相影响，前一个工序的刻蚀多刻了两纳米，也许这个步骤检测完全合格。
可到了几十个步骤之后，这两纳米的偏差会让离子注入的分布整体偏移。
閾值电压不达標，晶片跑不到目標频率，但没有人能反向定位到具体是哪个步骤出了问题。
这种跨几十道工序的因果链没有任何理论模型能预测，只能靠一轮一轮试出来。
台积电从1987年建厂，积累了二十四年。
每一条参数都是几万片测试晶圆和几十年废片堆出来的，不是买一台最新光刻机能绕过去的。
这也就是为什么中芯和台积电都拥有asml同型號的浸没式光刻机，台积电可以用到做到几纳米的套刻精度，中芯在同一时间也並做不到。同一台机器，不同的工艺know-how，差距就是这么出来的。
邱慈云，季明华和蒋尚义的建议当然没问题，但是陈一然还是拍板，先询问，能不能买最新的。
瓦森纳协定现在只是限制和审核，不是禁止。
1960i，审核速度慢但不被直接拒掉。
再过几年，再想买的话，鬼知道买不买得到。
他这一年可是对科技圈影响巨大，蝴蝶效应之下，后续的歷史进程都不可信了，谁知道哪天就会突然禁运了呢。
现在如果买1900i或者1860i，等万果园的工艺真到了需要最先进浸没式光刻来做14纳米的时候，荷兰那边不卖了，那不是拿著钱干著急吗。
1960i是需要爭取的，最次也要买1950i。
几个老头好像都明白了陈一然的意思，最后都同意了，並且下了保证，一定尽全力攻克技术的。
邱慈云最有意思，他晚上给陈一然发了文件之后，他又打来了电话，开始说经验。
“陈总啊，你现在得开始演戏了，如果想要我们公司更好，你就得利用你现在美国的公司,floweda的名头该用就得用！还要树立你在美国那边的形象！”
作为天天高强度上网的人，他对於光刻机的事情知道的还不少。现在还不是最惨的时候，好歹还是能买到duv的，再过十年，不只是duv买不到，里面的一些核心部件也都买不到了。
首当其衝的就是物镜和投影透镜，全都是蔡司生產的，这是光刻机的灵魂，一直到2025年，中国也没追上蔡司的水平，只能做一些低端线。
比较扎心的是，追上这个需要离子束拋光机等超精密设备，而这些设备本身也是需要从日本德国进口的。
还有光源系统，努力发展之后，虽然能用，但是稳定性差距巨大，euv更是摸都摸不到边。
精密机械方面，双工件台是asml的標誌性技术，一个台在曝光的同时，另一个台在做对准测量，交替工作，產能翻倍。
中国虽然看似追上了，但是光柵尺几乎完全依赖德国海德汉。
2025年的情况是，虽然已经喊出了国產率超过7成的口號，但是那剩下的3成一直依赖库存部件，但这些部件终有一天会用完的。
所以在管理会上，陈一然直接確定了公司未来的发展方向，不要考虑什么经济问题，先在技术上一路狂奔。
钱，陈一然多的是，他直接喊出了，除了帐面上的9亿美金和楷登未来3年的8亿美金分期款项。
万果园在中国eda市场中赚到的所有钱，以及6英寸產线赚到的钱，全部会投到设备和技术上。
甚至，如果研发需求资金过多，他可以以股东的身份借款。
虽然会议上都是资深从业者，已经过了吃饼的年纪，但是陈一然在这一年，多少养出了点感染力。几个大佬，多少有点血还未凉的感觉。
当天会议结束，邱慈云甚至在晚上，就把整个光刻机採购的详细流程整理好发给了他。
买一台浸没式duv光刻机不是签了合同打款就等收货的事，从发询价函到最后设备进洁净室，正常要跑一年半到两年，中间卡著三道大关。
第一关在asml的荷兰总部，第二关在荷兰政府，第三关在中国政府。
当然，第一和第三，是所有贸易都会走的。
但是作为高尖端项目，这第二关，就很麻烦了。
因为这涉及到一个协定。
瓦森纳协定。
全称是关於常规武器和两用物品及技术出口控制的瓦森纳安排，於1996年在奥地利维也纳成立，由四十个成员国组成。
协定的核心是一份管制清单，清单上的敏感物项和技术在出口时必须经过各成员国政府的逐单审批。半导体製造设备，尤其是浸没式duv光刻机，就在这张清单上。
本书首发 追书认准 101 看书网，101??????.??????超省心 ,提供给你无错章节，无乱序章节的阅读体验
asml不能自主决定卖给谁，每一台出口到中国的nxt光刻机，asml都要先向荷兰外交部属下的经济政策局提交出口许可申请。
荷兰政府审核设备的技术参数有没有超过瓦森纳协定的限制线，同时参考其他成员国的意见。
当然，说破了就是美国的意见。
然后决定发证还是拒绝，正常周期是四到六个月。
在2011年这个时间点上，浸没式duv在审核体系里所处的是一块灰色地带。审是审得慢，但如果买家的背景乾净，用途清晰，承诺不转售不军用，一般也不会被直接拒掉。
荷兰並没有將其列入《战略物资条例》，美国的《出口管理条例》也没有列入。
中芯国际在未来几年，曾经大规模採购过asml的光刻机，都没有被拒绝。
可以说这是一个短暂的窗口期，过了这个村就没这个店了。
但是，邱慈云，季明华，蒋尚义在会议上，一开始却並不支持买最新型號的光刻机。
现在的最新型號光刻机，是nxt1950i和1960i。
1950i是2008年初的主力型號。
1960i则是asml宣布，明年才会交付的最新型浸没式duv型號，號称解析度到38纳米，套刻精度可以控制在几纳米上下。
做28纳米和后续的14纳米工艺进阶，从参数上说这台机器是最匹配的。
可是28纳米用上一代的1900i甚至再早一点的1700i，在多几个个月的工艺磨合之后同样可以跑通。
几个大佬更是认为，1900i会更好用，原因在於工艺know-how。
工艺know-how，没有什么固定的中文翻译，简单来说，应该就是技术诀窍的意思。
很多人以为买了最先进的光刻机就能做出最先进的晶片，但其实並不是那么简单。
光刻机在整个晶片製造的工序链里只是其中一环，一个28纳米晶片从投片到封装出库大概要经歷五百到八百道工序。
光刻把电路图案投影到硅片上，刻蚀把图案刻进材料里，薄膜沉积在上面镀各种材料层，离子注入改变导电性，化学机械拋光把表面磨平，每道工序之间还有好几轮清洗和量测。
光刻机只负责每一次循环里面的拍照步骤，拍完之后，怎么刻，刻多少。
用什么气体配比，射频功率设置为多少瓦，腔体压力保持在多少毫托，温度控制在几度，刻多长时间，这些东西都需要后续自己的工艺测试。
一套成熟的刻蚀配方可能包含几十个参数，这些参数不是从教科书上能查到的。
每家代工厂的刻蚀机台不同，腔体內部状態不同，靶材组合不同，参数全都要自己摸索。
离子注入的能量窗口，偏了百分之五就可能让最后的閾值电压跑偏。化学机械拋光什么时候该停，不是一个传感器数字就能判断的，是工艺工程师根据几千片硅片的数据积累出来的经验。
最麻烦的是各个工序的互相影响，前一个工序的刻蚀多刻了两纳米，也许这个步骤检测完全合格。
可到了几十个步骤之后，这两纳米的偏差会让离子注入的分布整体偏移。
閾值电压不达標，晶片跑不到目標频率，但没有人能反向定位到具体是哪个步骤出了问题。
这种跨几十道工序的因果链没有任何理论模型能预测，只能靠一轮一轮试出来。
台积电从1987年建厂，积累了二十四年。
每一条参数都是几万片测试晶圆和几十年废片堆出来的，不是买一台最新光刻机能绕过去的。
这也就是为什么中芯和台积电都拥有asml同型號的浸没式光刻机，台积电可以用到做到几纳米的套刻精度，中芯在同一时间也並做不到。同一台机器，不同的工艺know-how，差距就是这么出来的。
邱慈云，季明华和蒋尚义的建议当然没问题，但是陈一然还是拍板，先询问，能不能买最新的。
瓦森纳协定现在只是限制和审核，不是禁止。
1960i，审核速度慢但不被直接拒掉。
再过几年，再想买的话，鬼知道买不买得到。
他这一年可是对科技圈影响巨大，蝴蝶效应之下，后续的歷史进程都不可信了，谁知道哪天就会突然禁运了呢。
现在如果买1900i或者1860i，等万果园的工艺真到了需要最先进浸没式光刻来做14纳米的时候，荷兰那边不卖了，那不是拿著钱干著急吗。
1960i是需要爭取的，最次也要买1950i。
几个老头好像都明白了陈一然的意思，最后都同意了，並且下了保证，一定尽全力攻克技术的。
邱慈云最有意思，他晚上给陈一然发了文件之后，他又打来了电话，开始说经验。
“陈总啊，你现在得开始演戏了，如果想要我们公司更好，你就得利用你现在美国的公司,floweda的名头该用就得用！还要树立你在美国那边的形象！”